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口頭

陽電子消滅を利用した水の放射線化学研究

平出 哲也

no journal, , 

水の放射線化学研究は原子力分野や放射線影響分野などで重要である。陽電子消滅を利用した水の研究は、ポジトロニウム形成過程を利用した過剰電子の挙動に関するものは行われてきたが、新たに陽電子消滅寿命-運動量相関(AMOC)測定によって、OHラジカルと三重項ポジトロニウムとの反応を利用したOHラジカルの挙動に関する研究が可能となってきた。過剰電子とOHラジカルの挙動の温度依存性から、水の構造変化がこれら活性種の挙動に影響を与えることが明らかとなってきたので、その結果について報告する。

口頭

ESR線量計測法による外部被ばく線量評価の取り組み

岡 壽崇; 高橋 温*; 光安 優典*; 小荒井 一真; 木野 康志*; 奥津 賢一*; 山下 琢磨*; 関根 勉*; 清水 良央*; 千葉 美麗*; et al.

no journal, , 

東京電力福島第一原子力発電所事故で環境中に放出された放射性物質により、ヒトや動物は長期的な低線量・低線量率被ばくを受ける。ヒトや動物への放射線影響を正確に調べるためには、個体がどれだけの被ばくを受けたかを定量する必要がある。我々は電子スピン共鳴(ESR)線量計測法で個体の外部被ばく線量を計測することを試みており、本研究では、我々のこれまでの取り組みと、実際に野生動物の外部被ばく線量を行った結果を報告する。

口頭

模擬燃料デブリを用いた過酸化水素による酸化劣化過程の研究; 酸化物固溶体形成によるUO$$_{2}$$相の安定化の効果

熊谷 友多; 日下 良二; 中田 正美; 渡邉 雅之; 秋山 大輔*; 桐島 陽*; 佐藤 修彰*; 佐々木 隆之*

no journal, , 

東京電力福島第一原子力発電所では、燃料デブリの取出しが進められる予定となっている。現在は炉内に窒素を常時供給し不活性雰囲気を保持しているが、取出し作業の開始に伴い、大気中の酸素が炉内に流入することが考えられる。長期を要する燃料デブリの取出しの間、燃料デブリは酸素の流入と放射線分解の影響を受けることになる。二酸化ウランの場合、水の放射線分解によって生じる過酸化水素の反応によって、表面のウランが6価に酸化され、溶出することが知られている。酸素は放射線誘起反応による過酸化水素の生成を促進し、ウランの酸化を加速させる。そこで、このような条件における燃料デブリの安定性を評価することを目的として、二酸化ウランとステンレス鋼成分に加えてジルコニウムを含有する模擬デブリ試料を異なる条件で合成し、過酸化水素水溶液中での酸化劣化を調べた。模擬デブリ試料の過酸化水素水溶液への浸漬試験を行い、金属イオンの溶出挙動と試料表面の性状変化を分析した結果、酸化物固溶体が形成された模擬デブリでは過酸化水素による酸化反応が抑制されることを明らかにした。

口頭

UVSOR-IIIにおけるガンマ線誘起陽電子消滅分光法の開発

平 義隆*; 杉田 健人*; 山本 涼平*; 岡野 泰彬*; 平出 哲也

no journal, , 

UVSOR-IIIにおいて、ガンマ線誘起陽電子消滅分光法を開発している。本手法では、従来の陽電子線源を用いた方法では測定が困難であった厚さ数cmのバルク試料全体の欠陥分析が可能となる。現在、陽電子寿命測定法のユーザー利用を展開し、それと並行して同時計数ドップラー拡がり法,寿命運動量相関測定法,スピン偏極陽電子分光法の開発を行っている。本討論会ではそれらの開発状況について述べる。

口頭

原子状酸素による高分子材料表面への微細構造形成; 高分子表層の自由体積

後藤 亜紀*; 田川 雅人*; 満汐 孝治*; 岡 壽崇; 山下 真一*

no journal, , 

宇宙機が周回する地球低軌道には残留大気が存在し、その主成分は原子状酸素(AO)である。宇宙機の周回速度は約8km/sであり、これを相対速度としてAOに衝突される。宇宙機を構成する熱制御材料など高分子材料は、AOとの相互作用によってその表面が酸化および浸食され、機械特性や熱光学特性が低下するため、地球低軌道を模擬したAO照射環境における高分子材料の劣化予測や防護技術の確立が不可欠である。本研究では、ポリエチレンなどの高分子材料にAOを照射し、微視的突起構造の形成と、照射に伴なう表面近傍での高分子の自由体積の変化を調べたところ、突起構造形成と自由体積サイズの減少の関連が示唆された。

口頭

1.5keV軟X線照射した重水素化アラニン中での高密度ラジカル生成

中川 清子*; 岡 壽崇; 藤井 健太郎*; 横谷 明徳*

no journal, , 

アラニンにガンマ線などの放射線を照射すると、還元プロセスから脱アミノラジカルが、酸化プロセスから脱水素ラジカルが生成することが知られているが、数keVオーダーの軟X線照射でのラジカル生成の評価はほとんど行われてこなかった。そこで、SPring-8のBL23SUにおいて1.5keVの軟X線を照射しながら、L-アラニン-3,3,3-d3とL-アラニン-d4中に誘起されるラジカルのその場測定を行った。軟X線を照射した場合、ガンマ線照射と比べてラジカル生成密度が高く、ラジカル生成効率が低い(10$$^{-6}$$オーダー)ことがわかった。軟X線照射は高LET放射線と同様にラジカルが高密度で生成するため、ラジカル-ラジカル再結合が効率よく起き、その結果、観測されるラジカル量が減少したと考えられた。

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